Maestría en Derecho Sancionatorio y Disciplinario
Maestría en Derecho Sancionatorio y Disciplinario hace parte de la oferta académica de la Universidad La Gran Colombia, seccional Armenia.
3 semestres
36
Presencial
Perfil del programa
La Maestría en Derecho Sancionatorio y Disciplinario, es un programa de formación avanzada dirigido a profesionales interesados en profundizar en el estudio de la potestad sancionatoria del Estado y el régimen disciplinario. A través de una formación integral, el programa ofrece herramientas conceptuales y metodológicas para el análisis y aplicación de normas sancionatorias, con un enfoque en la interpretación jurídica y la resolución de conflictos dentro del marco constitucional y legal vigente.
Perfil del egresado
El Magíster en Derecho Sancionatorio y Disciplinario será un profesional altamente formado que le permitirá con solvencia identificar problemas afines a esta área del saber y poder dar solución bien en el desarrollo como autoridad o como litigante. En este orden de ideas, podrá desempeñarse como autoridad sancionatoria y disciplinaria (abogados), así mismo, asumir como defensor de los intereses y derechos de las personas objeto de investigaciones en estos ámbitos. Aquellos profesionales de otras áreas podrán ser docentes, asesores y consultores respecto de las diferentes áreas de conocimiento
que se impartieron en el Programa.
Metodología
Conjuga la cátedra presencial, el trabajo independiente, los seminarios y las tutorías, cuyo objeto es la articulación de los contenidos conceptuales, con la solución de problemáticas de la Maestría en Derecho Sancionatorio y Disciplinario.
Plan de estudios
Segundo periodo
- Responsabilidad fiscal y juicio de cuentas.
- Derecho Disciplinario de las profesiones liberales y jurisdicción.
- Las TIC en el Derecho Sancionatorio.
- Seminario de Investigación II.
- Curso electivo I.
Tercer periodo
- Procedimiento sancionatorio y disciplinario.
- Procedimiento sancionatorio tributario.
- Psicología jurídica.
- Trabajo de Grado.
- Curso electivo II.